Açıklama

CF40-4x5kV-10A Yüksek Voltaj Vakum Geçişi

Flanş Tipi: CF40

Flanş Malzemesi: SS304

Çalışma Gerilimi: 5 kV

Çalışma Akımı: 10A

İletken Adedi: 4

Vakum İçi İletken Uzunluğu: 52 mm

İletken Çapı: 1.28 mm

İletken Malzemesi: Bakır

Yüksek Voltaj Vakum Geçişi (High Voltage Vacuum Feedthrough):

Yüksek voltaj vakum geçişleri, elektriksel enerjinin vakum ortamına, sistem bütünlüğünü ve hermetik izolasyonu bozmadan aktarılmasını sağlayan hassas mühendislik bileşenleridir. Bu geçişler, atmosferik basınç ile yüksek vakum (10⁻⁶–10⁻⁹ mbar mertebesi) arasındaki basınç farkını korurken, iletken(ler) üzerinden yüksek gerilim değerlerinin (tipik olarak 5 kV’tan 40 kV’a kadar, uygulamaya bağlı olarak daha yüksek seviyelere) güvenli biçimde iletilmesini mümkün kılar.

Yapısal Özellikler:

Geçiş elemanının merkezinde, genellikle bakır (Cu) veya paslanmaz çelik (SS 304/316L) alaşımından üretilmiş iletken pin veya çubuk bulunur. Bu iletken, seramik (alümina, Al₂O₃) veya cam izolatör malzemesi ile gövdeden elektriksel olarak yalıtılır. Seramik-metal bağlantısı, aktif lehimleme (active brazing) yöntemiyle gerçekleştirilir; bu sayede hem yüksek dielektrik dayanım hem de 10⁻⁹ mbar·L/s mertebesinde helyum sızdırmazlık oranı elde edilir.

Teknik Parametreler:

• Voltaj Dayanımı: İletken sayısı ve izolatör kalınlığına bağlı olarak 5–40 kV arası test edilmiş dielektrik mukavemet
• Akım Kapasitesi: İletken kesitine göre 10–500 A aralığında değişen taşıma kapasitesi
• Sızdırmazlık: ≤ 1×10⁻⁹ mbar·L/s (helyum kaçak testi ile doğrulanmış)
• Sıcaklık Aralığı: -40°C ile +450°C arasında bakeout uyumlu çalışma

Bağlantı Standartları:

KF (NW16-NW50), CF (2.75″-8″ ConFlat) veya ISO-K flanş seçenekleriyle sisteme entegrasyon

Uygulama Alanları:

Bu bileşenler; elektron mikroskopisi, iyon implantasyonu, plazma kaplama sistemleri, e-beam buharlaştırma (evaporator) düzenekleri, sputtering üniteleri ve yüksek enerjili parçacık hızlandırıcıları gibi ileri vakum teknolojisi uygulamalarında kritik rol oynar. Özellikle yük ayırma, elektron demeti odaklama ve yüksek gerilim beslemesi gerektiren CVD/PVD sistemlerinde tercih edilir.